O IEAv Tem Mais Uma Patente Homologada
Olá leitor!
Segue uma nota postada ontem (02/04) no site do Instituto
de Estudos Avançados (IEAv) destacando que este instituto teve mais uma patente
homologada.
Duda Falcão
O IEAv Tem Mais Uma Patente Homologada
02/04/2012
A Divisão de Física Aplicada do IEAv
obteve a homologação de mais uma PATENTE, agora são 3 em menos de 1 ano. Do
grupo de pesquisadores do Laboratório de Sistemas Eletromagnéticos deste
Instituto é o 3º depósito de patente homologado nos últimos 12 meses. Ainda
restam outros 5 depósitos. Este ano, o grupo pretende depositar outras duas
inovações nas áreas de técnicas de caracterização de filmes finos em RF/micro-ondas
e filtros de RF.
O invento consiste do processo de
fabricação de um monitor de corrente de feixe de elétrons com um mínimo de
componentes eletrônicos para o seu condicionamento de sinal. A qualidade do sinal
pulsado é obtida em função do casamento da impedância do transdutor e rolamento
secundário. Ainda, emprega-se uma cerâmica magnética com permeabilidade constante
na faixa de frequência de interesse. Assim, pode-se medir pulso de largura de poucas
centenas de nanosegundos. Detalhes da patente podem ser obtidos junto ao IFI:
Nas imagens são apresentados os
monitores de corrente pulsada em duas versões: uso em tecnologia de
aceleradores, cujo dispositivo desenvolvido pode ser empregado no sistema de injeção
do feixe de elétrons em aceleradores lineares; uso em sistemas de controle e automação
de fornos; telecomunicações; sistemas espaciais. Pode-se observar, pela imagem do
osciloscópio, que um monitor de corrente deve apresentar as características
reais da forma da corrente medida. Também o monitor de corrente para aceleradores
de elétrons emprega a tecnologia de solda cerâmica metal, desenvolvida no IEAv
na década de 80. Todas essas tecnologias foram desenvolvidas na primeira década
de vida deste Instituto.
Processo de Calibração do monitor de
corrente pulsada
empregado em Tecnologia de Aceleradores
Outra versão de monitor de corrente
O grupo de pesquisas de Sistemas
Eletromagnéticos do IEAv, com o financiamento recebido do COMAER e FINEP
(CT-INFRA 2011), está desenvolvendo esse monitor de corrente pulsada em dimensões
reduzidas, com vistas ao emprego em sistemas espaciais. Essa tecnologia emprega
as cerâmicas de blindagens de RF, usadas no acelerador do IEAv (LINAC), desde
os primórdios da década de 80, como carga de micro-ondas. Esse mesmo material
já é parte dos sensores de RF e micro-ondas, RF MEMS, etc. Pesquisadores do
IEAv desenvolveram trabalhos científicos internacionais e tese de doutorado
neste tema. Esse produto tecnológico caracteriza um exemplo do nível científico
dos projetos desenvolvidos no IEAv, gerando tecnologia nacional e formando
recursos humanos especializados nas áreas de interesse do COMAER.
O deferimento da referida PATENTE foi
publicado na página 125 da revista do Instituto Nacional da Propriedade
Industrial - INPI, (RPI 2149 de 13/03/2012), carta patente para a PI 9902434-9
A2, com depósito em 07/06/1999, com o título PROCESSO PARA FABRICAÇÃO DE MONITOR
DE CORRENTE DE ELÉTRONS NÃO INTERCEPTANTE do Instituto de Estudos Avançados -
IEAv (BR/SP), disponível em http://revistas.inpi.gov.br/pdf/PATENTES2149.pdf
Fonte: Site do Instituto de Estudos Avançados (IEAv)
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