Pesquisadores do IEAv Conquistam Novas Cartas Patentes

Olá leitor!

Segue uma nota postada hoje (27/10) no site do Instituto de Estudos Avançados (IEAv) destacando que pesquisadores do instituto conquistaram novas cartas patentes.

Duda Falcão

Pesquisadores do IEAv Conquistam
Novas Cartas Patentes

27/10/2016


O Instituto de Fomento e Coordenação Industrial - IFI, por intermédio do Núcleo de Inovação Tecnológica do Departamento de Ciência e Tecnologia Aeroespacial – NIT/DCTA -, conquistou no mês de setembro mais duas proteções intelectuais adquiridas no Brasil pelas Instituições Científicas e Tecnológicas do Comando da Aeronáutica – COMAER.

Estas proteções intelectuais referem-se à concessão de Carta Patente das tecnologias intituladas “Processo para fabricação de ferritas nano estruturadas mno-mgo-fe203 caracterizadas por moagem por laser cuhbr”, registrada sob o número PI 0606094-3 e

“Processo de fabricação de ferritas nano estruturadas mno-zno-fe2o3, caracterizadas por moagem por laser cuhbr.”, registrada sob o nº PI 0605598-2 pelo Instituto Nacional da Propriedade Industrial (INPI), de autoria dos pesquisadores Carlos Alberto Reis (ENU), Getúlio de Vasconcelos (EFO), do efetivo do Instituto de Estudos Avançados - IEAv e Francisco Cristóvão, do efetivo do Instituto de Aeronáutica e Espaço - IAE, organizações do COMAER subordinadas ao DCTA.

As referidas tecnologias tratam de método de fabricação de ferrita nano estruturada por moagem por laser CuHBr para obtenção de grãos da ordem de nanômetros. Estas ferritas possuem propriedades absorvedoras de ondas eletromagnéticas, podendo ser aplicadas a objetos para que se tornem de difícil detecção por radares.

O direito de propriedade intelectual representa um papel vital na prosperidade econômica e social de um país e serve como uma força motivadora para que indivíduos criativos compartilhem sua genialidade com a sociedade. Portanto, tal conquista deve ser motivo de destaque na comunidade científica do DCTA.



Getúlio de Vasconcelos (EFO).
Carlos Alberto Reis (ENU).
Francisco Cristóvão (IAE).


Fonte: Site do Instituto de Estudos Avançados (IEAv)

Comentários

  1. Puta merda, me desculpem o palavrão, mas como é que pode levar 10 anos para registrar uma patente aqui no Brasil? Eu já tinha lido em outros lugares que levava de 5 à 7 anos, (nos EUA leva-se 1 ano) mas não imaginava que poderia chegar a uma década.

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